产品详情
产品应用:
铌靶材料是一种重要的薄膜材料。铌靶材料最终纯度可达99.95%以上,晶粒尺寸小,再结晶组织好,三轴一致性好。作为阴极溅射靶材,它所形成的氧化膜质量均匀,不会与空气中的其他物质发生反应,具有持久的保护作用。铌溅射靶广泛应用于光纤、半导体芯片和集成电路等领域。
参数:
规格:直径(50-400)mm *厚度(3-28)mm
纯度: 99.9%
成份说明:
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