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铌靶材

我司为所有PVD应用提供高纯度和密度的铌和铌合金。铌溅射靶可以生产在平面和可旋转的配置,以适应客户指定的背板或杯与铟/锡或银环氧粘结。
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产品描述
参数

产品应用:
铌靶材料是一种重要的薄膜材料。铌靶材料最终纯度可达99.95%以上,晶粒尺寸小,再结晶组织好,三轴一致性好。作为阴极溅射靶材,它所形成的氧化膜质量均匀,不会与空气中的其他物质发生反应,具有持久的保护作用。铌溅射靶广泛应用于光纤、半导体芯片和集成电路等领域。

参数:

规格:直径(50-400)mm *厚度(3-28)mm
纯度:  99.9% 

              
成份说明:

关键词:
铌靶材
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