产品应用：
铌靶材料是一种重要的薄膜材料。铌靶材料最终纯度可达99.95%以上，晶粒尺寸小，再结晶组织好，三轴一致性好。作为阴极溅射靶材，它所形成的氧化膜质量均匀，不会与空气中的其他物质发生反应，具有持久的保护作用。铌溅射靶广泛应用于光纤、半导体芯片和集成电路等领域。

参数：

规格:直径（50-400）mm *厚度(3-28)mm
纯度:　 99.9％　

　　　　　　　　　　　　　　
成份说明: